◆セミナー報告 ≫第11回セミナー(20.02.21)報告
第11回 高周波アナログ半導体技術セミナー報告

□テーマ: 「光通信技術の現状と展望」
□日 時: 平成20年2月21日(木) 15:00〜18:30
□場 所: JSTイノベーションプラザ京都


 平成20年2月21日、JSTイノベーションプラザ京都において第11回高周波アナログ半導体技術セミナーが開催された。
 今回は、「光通信半導体技術の現状と展望」をテーマに、発展著しい光伝送の分野で活躍されている大学及び企業の研究開発代表者を講師に招きセミナーを開催した。今回は参加者が従来よりも少なかったが、講演内容は、デバイス、システム、要素技術に関して良くまとめられており、従来と同様に活発な討議が行われた。
 また、講演終了後の交流会にも10数名の参加を得て、いつものように熱気に溢れた意見交換が行われた。講演の概要は以下の通りである。
◆基調講演:「光通信半導体技術の現状と展望」
          小林 功郎 氏 東京工業大学 精密工学研究所 教授 
 「光通信半導体の現状と展望 −半導体レーザの展開を中心に−」と題して東京工業大学教授の小林功郎氏によって行われた。
 光伝送技術の進展に伴う半導体レーザ技術の発展について、歴史に沿って解説がなされた。
 光伝送は伝送レートと距離の拡大において絶え間の無い性能向上が図られた。それは一つの技術で達成されたのではなく、技術が頭打ちになると次の技術革新によって乗り越え、次々と新たな技術の導入が行われた結果であった。
 伝送技術として時分割多重、光直接増幅、高密度波長多重など技術革新が行われ、その元になったのが半導体レーザの技術革新であり、デバイスとシステムの連携、切磋琢磨により大きな発展を遂げ、そういう意味で非常に筋の良い技術であったと述べられた。
 今後は、ノードでの信号処理を電気ではなく光で行うことや、光デバイスの集積化により更なる発展が期待されること、またLSIチップ間、チップ内光配線への展開が期待されるとの予想が示された。

◆講演1.:「光ネットワークデバイスとベンチャービジネス」
          日比野 善典 氏 日本電信電話(株) NTT 未来ねっと研究所 部長
 「光ネットワークデバイスとベンチャービジネス」と題して、NTT未来ねっと研究所の日比野善典氏による講演があった。
 光伝送の主要な技術として、端末からの光アクセス技術、幹線を支える大容量光伝送技術、そして中継を担う光ノード技術の最新技術が紹介された。
 大容量伝送技術では、EDF技術とラマン増幅を組み合わせたハイブリッド光増幅中継技術、位相変復調技術、さらにInP半導体、PLC技術による超高速送受信デバイスなどにより10Tb/s伝送が可能となることが示された。これらを支える光導波路技術としてNTTが開発したPLC技術についても説明があり、これを元に設立されたベンチャービジネスについての成功物語の紹介があった。
 ベンチャービジネスから学んだことなどの紹介もあり興味深い内容であった。
◆講演2.:「光配線技術の展望」
          横山 新 氏 広島大学 ナノデバイス・システム研究センター 教授
 「光配線技術の展望」と題して、広島大学教授の横山新氏による講演があった。広島大学ナノデバイス・システム研究センターでは、将来のLSIにおける情報伝送量の増大に伴う消費電力増大や信号遅延の問題に対して、限界に近づきつつある金属配線に代わって光配線を導入する研究を活発に行ってきている。光配線はシリコンLSIと融合できる総合的な技術が完成しておらず、発光、受光、変調、導波路などの素子技術とそれらを一体化する要素技術の研究が行われてきた。広島大学では、化合物の発光デバイスとSiデバイスとの貼り合わせ技術、Siプロセスと調和するマッハ・ツェンダー型光変調器やリング共振器光スイッチ技術などを開発し動作実証を行っている。最近では、Siフォトニクスと呼ばれる高速低損失かつ微小サイズの技術開発が進みつつあり、2015年の実用化を目指す企業の取り組みもあり、今後の発展に期待が寄せられた。
感想:
 これまで化合物とシリコンプロセスの親和性の悪さから光デバイスとシリコンデバイスの集積実用化が進んでいないが、最近微小なサイズでの見直しが進んでおり、こうした技術の産業界に与える影響は大きく、この分野での産学の果敢な取り組みの必要性を感じた。

このぺージを閉じる

HAB研究会


NPO法人高周波・アナログ半導体ビジネス研究会 〒601-8047京都市南区東九条下殿田町13 九条CIDビル102 潟Aセット・ウィッツ内
Tel. 075-681-7825  Fax. 075-681-7830   URL http://www.npo-hab.org